永光化學 專利新品光阻劑亮相

工商時報【李水蓮】 永光化學參加2013年台灣觸控面板暨光學膜製程設備材料展，在台北南港展覽館L區818攤位，展出觸控面板光阻劑、低溫多晶矽（LTPS）TFT-LCD光阻劑、軟性基材用的覆晶薄膜封裝（COF）光阻劑、主動式有機發光二極體（AMOLED）光阻劑等應用在光電領域的多項產品。 永光化學總經理陳偉望表示，永光化學自1996年發展電子化學事業、一路走來不間斷的建立自主技術，在低溫多晶矽（LTPS）TFT-LCD製程關鍵化學品已上市EPL386及EPL388正型光阻劑；在觸控領域方面，新世代絕緣層透明光阻劑EOC 300Series產品已上市，該產品具有高透明性、接著性佳、高硬度、低曝光能量、易顯影及耐蝕刻特性、耐高溫、耐高濕之特性，運用於觸控面板絕緣層（OC1）與保護層（OC2），已成為事業營運的主力產品。 永光專利新產品FSR110 & 112為正型光阻劑，主要應用在可撓性顯示器的產品，具高解析度、曝光能量低、可撓曲性、塗佈性及良好附著性、並且可使用1％碳酸鈉系統顯影等特性；將推廣至面板驅動IC的COF&TAPE製程應用，也可塗佈在軟性基材上，將是高階智慧型手機、平板電腦等3C電子商品朝向輕、薄、短、小及精緻化發展趨勢中，不可或缺之關鍵及前瞻性製程材料。 展望LCD發展趨勢將聚焦於OGS製程之關鍵化學品開發，永光未來將再提升黑色光阻劑EK 520&570黃光製程特性，並持續開發及鑽研大於300℃耐高溫製程且具有高表面電阻特性的觸控面板用光阻劑，以持續滿足客戶需求。