Yahoo奇摩新聞 美光在日投資37億美元 導入EUV技術
日本首相岸田文雄18日會見台積電等共7家全球半導體企業高層，會後美光即宣布在日本政府支持下，未來幾年內，規劃在日投資5,000億日圓（約37億美元）引進極紫外光（EUV）晶片製造設備，於廣島廠打造新一代的記憶體晶片。
先前已有傳聞指出，美光準備接受日本政府約2,000億日圓補助，向荷蘭半導體製造設備商艾司摩爾（ASML）購入EUV設備，在廣島廠生產DRAM晶片。
最新的EUV晶片製造設備將應用於生產1-gamma晶片。美光發布聲明指出，該公司是第一家引進EUV技術至日本的半導體企業，並形容這是「全世界最複雜精密的半導體製程」，預料自2025年起，將在台灣與日本把EUV導入1-gamma製程量產。
日本期盼吸引企業投資，重振自家晶片產業，目前日本占全球晶片市場比重約10％，遠低於1980年代末期的50％。美國也持續拉攏盟友攜手合作，共同對抗中國晶片與先進科技的發展。
岸田與台積電、英特爾、三星等晶片大廠高層召開會議時強調，日本政府將提供「激進政策」，鼓勵業者擴大在日投資。
談到為美光投資案提供的支持時，日本經濟產業大臣西村康稔（Yasutoshi Nishimura）在會後表示，日政府將會動用晶片相關預算4,500億日圓的一部分作為資金來源。美光總裁暨執行長梅羅特拉（Sanjay Mehrotra）指出，過去十年來，美光廣島廠一直是記憶體產業多項領先技術的研發與生產重心，「我們很自豪能首度引進EUV至日本，在廣島廠採用1-gamma製程生產，上述規畫，展現我們持續對日本的承諾、與日本政府的緊密關係，以及美光廣島團隊傑出實力」。
路透報導，美光將使用這筆補助資金，向ASML購入EUV晶片製造設備，除了日本政府的補助，美光也將投入資金，並取得廣島當地的補助。
