印能在SEMICON TAIWAN宣布推出三款新產品，可有效解決半導體製程中氣泡、散熱和翹曲等問題

高階半導體製程中，氣泡、散熱和翹曲問題對於提升產品可靠性、效能和生產良率更為重要，這些問題若未能妥善解決，將導致元件過熱、結構損壞，甚至降低整體生產效率與產品壽命。先進製程解決方案大廠─印能（7734）在SEMICON TAIWAN宣布，公司推出三款新產品，可有效解決半導體製程中氣泡、散熱和翹曲等問題，大幅提升製程良率。

印能表示，在半導體封裝製程中，氣泡的生成一直是影響產品質量和可靠性的重大挑戰，這些氣泡通常由於Thermal budget不足、材料模流回包、界面汙染、尺寸大小等問題而產生，導致導電性問題、結構完整性下降，以及熱傳導效率降低，最終影響元件的可靠性、性能和壽命。印能的VTS機型過去已成功解決了許多難以克服的氣泡問題，為業界帶來了顯著的製程改進。

然而，隨著半導體技術不斷演進，Chiplet技術的興起帶來了新的挑戰，這些小晶片的封裝過程中，除了氣泡問題，還衍生出晶片背面爬膠問題、助焊劑殘留的難題，尤其助焊劑殘留會進一步影響封裝的可靠性，增加了製程的複雜性和風險。為了應對這些新挑戰，印能推出第四代RTS (Residue Terminator System) 機型。RTS不僅保留了VTS卓越的除泡能力，還專門針對Chiplet技術所帶來的爬膠問題以及助焊劑殘留問題進行優化；徹底消除封裝過程中的氣泡和殘留物，顯著提升小晶片封裝的良率和穩定性。

此外，印能推出的BMAC(High Power Burn In System) 高功率預燒測試機，融合了印能降溫的成熟技術，成為全球唯一能夠使用氣冷方式解決單晶片1200W應用於Burn-in測試甚至已開始投入Server Rack氣冷散熱問題的研發。在半導體製程中，Burn-in測試是提升產品可靠性的關鍵步驟，而高功率的處理器和元件在此過程中往往面臨散熱挑戰。傳統的散熱方式可能導致熱應力、結構完整性問題以及冷凝現象，進而影響元件的性能和壽命。