ASML高規EUV出貨台積電

荷蘭晶片製造設備商艾司摩爾(ASML)表示,今年將首次出貨高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)微影設備給台積電(2330)。

Jefferies分析師預計,台積電將在2028年生產A14製程的晶片時,採用這項技術。

彭博資訊報導,艾司摩爾表示,該公司財務長達森(Roger Dassen)在近期的電話會議上告訴分析師,台積電和英特爾這兩家大客戶,將在今年底前取得High-NA EUV機台。

英特爾先前就已經訂購,並在去年12月底獲得第一台High-NA EUV設備,運到該公司位於奧勒岡州的工廠,並已完成組裝。

目前不確定台積電何時會收到。一名台積電代表說,正與供應商密切合作,拒絕進一步置評。

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