國際版畫雙年展 得獎揭曉

國立臺灣美術館主辦「中華民國國際版畫雙年展」，自一九八三年開辦迄今已有四十年，為全球矚目的國際版畫雙年展，今年第二十屆共收到七十九國、一○一一位來自世界各地的版畫家報名參與。經過初審、複審嚴謹評審，共遴選出十五件得獎作品及一六五件入選作品。本屆一八○件入選以上及得獎作品，預計八月至十一月於國美館展出，藉由創作者對自身文化的轉譯與詮釋，呈現給觀眾銘刻不同文化脈絡下的多元視野與豐沛的創作能量。

本屆金牌獎得主，來自法國的參賽者CleMenceFERNANDO，獲獎的美柔汀雕凹版畫作品〈54〉，運用元素的重組變化一探多重可能的創造性，其版畫技法純熟精煉，獲評審團高度肯定；獲得銀牌獎、烏克蘭籍的IrenaLAWRUSZKO，其作品〈TimeandPassingIII〉取材來自廢棄寺廟的靈感，透過蝕刻、金箔等技法，營造出時間流逝下頹然且神祕的氛圍；銅牌獎作品〈FlightPractices,fromtheSeries『PFAAOA』〉，是來自哥倫比亞的參賽者OrlandoMARTINEZVESGA的作品，其擅長利用日常與荒謬行為的融合、對照，暗示對與錯之間不安的平衡，彷若探問打破規則的可能。本屆其他的得獎及入選作品，皆擁有豐沛的表現力與創造性，以獨特的藝術語彙解析多元的議題面向。