埃米世代抓漏專家汎銓 具AI晶片矽光子分析專利技術

陳宏銘
汎銓早就參與9月台積電引進首台、下一世代High NA EUV曝光機使用金屬層氧化物EUV光阻的研發。隨著今年啟用竹北營運二廠，也已完成最新檢測分析設備進駐並投入營運。
汎銓早就參與9月台積電引進首台、下一世代High NA EUV曝光機使用金屬層氧化物EUV光阻的研發。隨著今年啟用竹北營運二廠，也已完成最新檢測分析設備進駐並投入營運。

半導體先進製程開始進入埃米世代，進入埃米世代，AI人工智慧浪潮掀起的海量資料高運算能力需求只會越來越高，伴隨而來的便是高耗能、高熱能，目前看來得好解方就是最近很紅的矽光子及共同封裝光學元件（CPO）。而半導體龍頭台積電，想突破摩爾定律瓶頸，也必須從積體電路轉變成積體「光」路。當中這一切的發展過程，少不了汎銓科技（6830）所扮演的分析檢測角色。

中美貿易科技戰關係，擁有先進製程材料、光、電驗證檢測分析能力的汎銓，已停滯中國的發展進度。
中美貿易科技戰關係，擁有先進製程材料、光、電驗證檢測分析能力的汎銓，已停滯中國的發展進度。

它是矽光子產業聯盟成員裡唯一擁有矽光偵測定位、漏光點矽光衰減量測、矽光斷路偵測等矽光量測方案及失效分析技術者。但從營業績效來看，汎銓今年不會好，儘管有10％左右的成長，不過由於提前對先進製程、AI晶片、矽光子投入15億元、近30台對應設備的成本，成長被吃掉下，每股盈餘EPS預計會倒退回到2塊多，董事長柳紀綸表示，「2奈米製程檢測人才學習曲線長，儘管訂單滿手，但營運業績好不了，優化學習曲線後，加上矽光子趨勢，2025年EPS會恢復到2023年（5.59元）水準，後年則會更漂亮。」

董事長柳紀綸（左2）說，汎銓除持續擴增、優化專業檢測人力外，日本、美國營運據點預期於2025上半年啟用並投入營運。
董事長柳紀綸（左2）說，汎銓除持續擴增、優化專業檢測人力外，日本、美國營運據點預期於2025上半年啟用並投入營運。

其底氣來源在於今年業績占比65％的先進製程，汎銓在材料分析（MA）技術與精密工法仍穩居領航者地位，隨著時間打磨學習曲線進一步優化，擴充的技術人員將可大幅消化進案量，逐步抵銷、攤提設備成本。而在半導體龍頭的授意下，汎銓也是美系AI晶片大廠在台唯一的檢測分析夥伴，由於AI晶片、矽光子趨勢大步邁前，量能被開發出來後，汎銓的營運動能將逐年擴大，以其獨領風騷的矽光子檢測為例，它現在只占汎銓3％的業績，但董事長柳紀綸預估多項關鍵檢測分析技術申請全球專利後，明年將可達到15％。

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