成大團隊研發全新高熵材料 為相關產業帶來革命性影響

國立成功大學電機系施權峰教授組成的跨領域高熵團隊，運用鍍膜、計算材料科學、太赫茲（兆赫）光電子學、原子級表面技術，解鎖該領域重要的學術課題，研發出全新的高熵材料，兼具導電又耐磨的特性。這項傑出的成果已刊登在國際頂尖期刊「Nature communications」。

施權峰教授表示，這篇研究相關延伸應用能夠帶來半導體、連接器、通訊、被動元件等產業，並帶來突破性革命。