永光化學 光阻系列商品吸睛

工商時報【李水蓮】 永光化學電子化學事業處，歷經20年的研發技術精進，不僅完整佈局半導體製程G&I-Line光阻產品版圖；今年更推出SiC專用研磨液，並著墨於晶圓級封測與系統級封裝所需之化學增幅型厚膜光阻劑、顯影液、研磨液、特殊油墨等一應俱全，以滿足新半導體新世代產品應用。永光化學於9月13日至15日參加半導體展，假南港展覽館k2142攤位亮點展出，完整呈現上、中、下游供應鏈之相關光阻系列商品，精彩可期。 永光化學副總經理林昭文表示，永光化學秉持「承諾（Commitment）、專業（Competence）、定制（Customization）」3大主軸、以及憑藉與6家國際大廠合作代工的經驗，建立完整的經營策略與專業技術。今年最大突破即推出SiC專用研磨液，其研磨速率快，晶圓平整度已達客戶需求。永光在設備與材料的搭配上，滿足客戶需求供應。礙於目前市場未達需求量化，但在供應製程上，「永光已Ready了！」林昭文補充道。 面對大陸紅色供應鏈崛起，大陸半導體的國家大計畫更提升到戰略地位，永光化學在大陸市場永不缺席。永光化學於18年前進入中國大陸，在既有產品下，持續開發多項高性能材料、建立驗證產線。在地供應8吋、12吋廠，以及TFT/LCD 10代、6代線。永光對於IC材料研發的投入資金相當高，早已成為大陸市場在地供應商。 永光化學電化事業處處長孫哲仁表示，面對2.5D與3D晶片堆疊的技術演進，永光化學目前著重於封測產業使用之黃光化學品，推出化學增幅型厚膜ECA 150系列光阻劑、EPD 56、EPD 66顯影劑，主要針對金凸塊（Gold Bump）、銅柱（Cu Pillar）等製程使用，在不同的製程條件下，即使高膜厚也可表現出優異的深寬比，並進一步提升產能與速度，更擁有不易脆裂、耐電鍍液、附著性佳等特性，以及更佳的深寬比解析能力。 孫哲仁指出，近年環保意識抬頭，電動車成為時下最熱門的話題，碳化矽（SiC）半導體功率元件逐漸受到重視，永光不缺席新產品的開發，推出SiC專用研磨液，為半導體新時代來臨做好產品就位。此外，今年半導體展中，EPI 630高解析I-Line光阻劑仍為展覽主軸之一，其應用於晶圓特殊製程的離子植入層，不僅感光性高，製程寬容度大，滿足客戶使用上的特殊需求。 永光化學為台灣第一家取得ISO 22301的化工企業，更堅信有能力與信心為每一位客戶客製專屬的產品，共創「Better Chemistry Better Life」的品牌承諾。