Yahoo奇摩新聞 為何半導體無塵室都採用黃光？原來影響晶片關鍵步驟
大家有沒有想過，不管是台積電還是三星的晶圓廠，為何內部無塵室大都使用黃光？而不是白光或其他顏色的光？原來這跟半導體製程的關鍵步驟有關。
無塵室（Cleanroom）排除掉空間範圍內空氣中的微塵粒子等污染物，獲得一個相當潔淨的環境，常用於高精度製造的產業，包括半導體製造、生物技術、精密機械、醫療等，其中以半導體業對室內溫濕度、潔淨度要求最為嚴格、必須控制在某個需求範圍內，才不會對製程產生影響。
（Source：三星）
半導體無塵室之所以使用黃光，主要跟微影製程（photolithography）有關，他是半導體製造中的關鍵步驟之一，利用光線穿透印有電路圖的光罩及光阻，在矽晶片上投印出電路圖。
在這個過程中，會將有二氧化矽絕緣層的矽晶圓塗上光阻，並於上方套上光罩（特定位置中有洞），透過紫外光照射，被光照過的光阻會變得容易溶解，將特定位置的光阻以顯影液溶解掉，再進行蝕刻，就只蝕刻到特定位置的二氧化矽，其他地方則被光阻保護。等蝕刻完畢，清除掉剩餘的光阻，就完成微影製程。
（Source：台積電）
由於微影製程所使用的光阻劑，是由樹脂、溶劑和添加劑組成，大部分的光敏感範圍皆在 450nm 以下，即對頻率高於黃光的藍光、紫外線敏感，只要光線波長在 500nm 以上，就不會引起不必要的反應或變化，而黃光波長介於 560 nm 至 590 nm 之間，光阻劑對這個波長較不敏感，比較不會造成提早曝光及誤曝的情況。
（首圖來源：台積電）
