Lam Research 推出突破性脈衝雷射沉積技術

半導體設備龍頭Lam Research(科林研發)宣布推出業界首款針對大量生產設計的脈衝雷射沉積(Pulsed Laser Deposition， PLD)機台Pulsus，為下一代MEMS麥克風和射頻(RF)濾波器的製造帶來突破性解決方案。

Pulsus PLD系統採用創新技術，能夠沉積出高達40％鈧含量的氮化鋁鈧(AlScN)薄膜，大幅提升RF濾波器和MEMS麥克風的性能表現。AlScN薄膜的壓電係數是目前濺射薄膜的2倍，不僅可以改善電能轉換效率，更能推動無鉛壓電材料取代傳統的鋯鈦酸鉛(PZT)。

Lam Research客戶服務事業群副總裁暨總經理Chris Carter表示：「我們運用在特殊半導體技術方面的專業知識，再加上獲業界肯定的沉積能力，以及與CEA-Leti的策略合作，在我們經過生產驗證的2300®平台上，為客戶帶來了這項改變產業遊戲規則的解決方案。」

Pulsus系統採用密集雷射脈衝轟擊目標材料，產生穩定、緻密的電漿羽流，並以薄層沉積在晶圓上。這種PLD製程可確保獲得高品質、均勻的薄膜，並精確控制厚度和應力，在大量製造方面具有獨特優勢。

相比傳統沉積方法，Pulsus的成本效益顯著，每片晶圓的成本只有其一小部分。這有助於提高製造良率，加快產品路線圖的發展。Pulsus不僅可以沉積AlScN，還能應用於其他複雜多元素材料，滿足特殊製程市場如AR／VR和量子運

射頻濾波器在5G、WiFi 6和WiFi 6E系統中扮演關鍵角色，通過增加網路可處理的頻段數量，同時改善每個使用者的體驗。MEMS麥克風因具有高訊噪比而備受推崇，能準確捕捉低沉聲音，對於支援5G元件中的語音控制和降噪功能至關重要。Pulsus提供的高性能薄膜技術，將有助於推動這些先進元件的發展。

憑藉Pulsus PLD系統的突破性能力，Lam Research再次展現其在特殊製程技術創新方面的領導地位，為5G和未來MEMS應用開啟了嶄新紀元。

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