Yahoo奇摩新聞 力突破美制裁！傳華為明年量產最新AI晶片 路透：良率僅20%
近年來美國政府對中國半導體業的制裁加劇，為了突破生產困境，中方決心自主研發國產晶片。據外媒報導，中國科技巨頭華為計畫將於明年第一季量產其最先進的AI晶片「昇騰910C」（Ascend 910C）， 欲與輝達（NVDA）生產的H100晶片相匹敵；然而在缺乏先進的光刻機設備下，晶片的良率僅落在約20%之低，顯示出中國想要完全實現晶片自主化，恐怕還有一段距離。
《路透社》週四（21日）報導，有兩位知情人士透露，目前華為已將昇騰910C樣品發送給多家廠商，並開始接受訂單，即便良率很低，意味著生產成本極高，華為還是決定第一季就開始量產準備出貨。由於美國實施禁令，華為的晶片無法獲得全球代工龍頭台積電生產，因此轉而尋求中國頂級晶圓代工廠「中芯國際」（SMIC）製造，據傳採用N+2（7奈米）製程；但由於無法取得艾司摩爾（ASML）最先進的曝光機設備與其他原材料等，因此晶片良率被限制在20%左右，遠低於商業化所需要的70%門檻。
華為新一代昇騰910C，雖然號稱運算性能可以媲美輝達的H100，但其實H100已經是輝達2022年推出、2023年出貨的產品，倘若華為真如報導所稱，順利在2025年出貨最新AI晶片，但也仍舊只有輝達兩年前晶片的效能。
消息人士還指出，即使是華為目前最先進、同樣由中芯國際製造的「昇騰910B」晶片，其生產良率也只有50%左右，這迫使華為大幅下修生產目標，並推遲出貨時程。《路透》先前曾報導，抖音母公司字節跳動今年向華為訂購了超過10萬顆昇騰910B，但截至7月份只收到不到3萬顆，遠遠無法滿足該公司的需求，而其他向華為訂購晶片的中國企業也有反映過類似問題。
自2020年起，美國開始禁止艾司摩爾向中國提供極紫外光（EUV）微影設備，去年艾司摩爾也停止向中國運送其最先進的深紫外光（DUV）曝光機，一些晶圓廠也被限制購買較舊的DUV機器。由於缺少先進光刻機設備，短期內也沒有解決方案，因此華為只能優先滿足政府和企業的戰略性訂單。
在美中科技戰中，華為扮演關鍵角色，白宮對許多中國企業實施各種限制，尤其是對華為的管制最為嚴苛，甚至認為華為與中國政府關係密切，恐會對美國國家安全構成威脅。在美國的全面防堵之下，華為難以提高先進AI晶片的良率，因此無法商業化，使得其在全球的市場競爭力正面臨嚴峻挑戰。
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