Intel歡慶ASML的High NA EUV設備抵達俄勒岡工廠,拍攝運算與架設過程短片

Intel在3月2日釋出一段短片,慶祝ASML的High NA EUV曝光設備正式運抵美國俄勒岡工廠並進行安裝,這套系統是Intel於2022年向ASML訂購新一代曝光機TWINSCAN EXE:5200的關鍵元件,是作為Intel於2025年大規模量產NA EUV計畫的一環,特地拍攝短片也可視為Intel半導體向外界信心喊話的宣傳。

Intel已在2018年向ASML訂購前一代的TWINSCAN EXE:5000,而TWINSCAN EXE:5200的NA(數值孔徑)為0.55,相較前一代系統能夠實現更精細的圖案,每小時可生產超過200片晶圓。根據Intel的規劃,Intel預計於2024年上半年量產20A製程,2024年年末至2025年進入18A製程。

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