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眾所周知，美國在半導體行這一方面一直都處於壟斷地位，因此華為才會輕易地被收拾。明顯中國是想救華為的，但中國沒有製造晶片的設備，因此中國更加重視半導體行業的研發，尤其是光刻機的研發，晶片設計技術中國早已掌握，只有中國研發出了光刻機，中國晶片業才有救。

但此次中國無法和以前一樣從外國購置一台光刻機進行研究摸索或者叫「逆向研發」，因為目前的光刻機都被美國規則所限制，無論是 ASML 的 EUV，還是 Nikon、Canon 的光刻機中國都難以購買使用。

美國的規則讓全球的光刻機銷量陷入僵局，影響最明顯的要數 Nikon，它一度是全球最大的半導體設備廠商，但現在份額大降，只有 7% 的份額了。對此公司日前宣布裁員10%，大約有 2000人會失業，Nikon 的光刻機部門也要尋求新客戶了。

在宣布裁員前，Nikon 其 70-80% 的光刻機營收都是來自 Intel 公司，這兩家公司一直以來都是親密合作夥伴，2002年 Nikon 陷入危機的時候，Intel 還慷慨解囊花費 9633萬元幫扶了 Nikon。但過於單一的銷路也確實讓 Nikon 難以良性發展，今年 4月到9月份 Nikon 收到的訂單量大幅下滑，光刻機採購數量只有 9台，比以往下滑了一半。

為了改變一直下滑的業績，日媒表示 Nikon 將把重點放在中國廠商上，一方面中國公司正在大力發展半導體行業，另一方面日本與中國沒有什麼糾紛，不受限制。不過現時看來，Nikon 亦不會貿然向中國出售光刻機，原因有二，一是 Nikon 光刻機究竟有多少美國技術仍是未知數，二是 Nikon 光刻機仍在 DUV 水平，即是勉強可生產 7nm 晶片(會良率低)，如果要追到最頂尖 5nm 水平，又或者想穩定生產 7nm，就需要 EUV 的光刻機。
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