中國自製DUV交貨中芯？專家指用「這方法」繞開美國制裁：離實際應用仍有距離
中國在美國晶片制裁下積極實現半導體製造自主，而在生產過程最為重要的光刻機發展上，近期傳出有所突破。媒體人烏凌翔在節目《烏鴉笑笑》中提到，中國有一座比較先進的自製光刻機近來已交付中芯（SMIC），推測應是由深圳新凱來所製造出的原型機，不過距離實際的應用，仍有一大段的距離需要克服。
烏凌翔指出，日前傳出交付與中芯國際的自製光刻應該是乾式的DUV，能在在單一曝光製程之下製造45奈米製程晶片，他解釋，DUV是深紫外光刻機，相對於EUV極紫外光機是比較早高發出的機種，使用的技術是LPP，也就是使用雷射產生電漿來發光，這項技術已經被哈爾濱工業大學證明是有效的，不過為了避開侵犯技術專利，採用的是LDP，以雷射誘導產生電漿，也就是中國在發展DUV技術，所採取的路徑和ASML一樣，因此也有可能是透過拆解ASML機台、以逆向工程製造出來的。
烏凌翔推測這台交給中芯的DUV，有高機率是華為旗下子公司新凱來所製造，之所以遲遲不願意公開有自製能力，應該是不希望被列入美國出口管制的實體清單，不過，他也提到新開來拜登卸任前對中國140間制裁清單中，仍然被列在其中，他研判深圳新凱來比被列為中國首套重大技術應用指導目錄中的上海微電子，更有可能是率先自製出DUV的企業，而這樣的推測和他月初去深圳考察得到的訊息一致。
烏凌翔分析應該是α （原型）機，交付給客戶試用、調整後試產、量產才會得到β機，確定可量產後才會再進一步談價格，換句話說在此之前若機器達不到客戶要求還是有可能退貨。不過中國在買不到EUV，連已經買到的1000多座DUV都有可能面臨美國強制要求暫停服務的威脅之下，中芯應該會積極的試用、協助調教改進這台來之不易的原型機。
不過，烏凌翔也引用台灣工研院工業技術資訊月刊一篇有關ASML光刻機零組件報告，指出一台光刻機的製作、穩定生產晶片牽涉精密且複雜的全球供應鏈與製程，中國現在要憑一己之力建立5000家的供應體系，就算他現在傳出來可能是用逆向工程造出來的光刻原型機，他的運行速度、能否順利運作、關鍵原材料能不能滿足精密製造的需求，這些都是仍然橫亙在中國實現半導體自主的難關，世界各國也都在密切觀察中。
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